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膠印油墨
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液態(tài)感光線路油墨應(yīng)用工藝

2010-08-27 16:32 來(lái)源:北鎮(zhèn)青網(wǎng)-北鎮(zhèn)新  責(zé)編:Sunny

摘要:
嚴(yán)格控制工藝條件,是保證產(chǎn)品質(zhì)量的前提。只有根據(jù)各個(gè)公司的工藝裝備和工藝技術(shù)水平,采用行之有效的操作技巧及工藝方法,加強(qiáng)全面質(zhì)量管理(TQM),才能大大提高產(chǎn)品的合格率。

  目視定位是用重氮片(Diazo film)透過(guò)圖形與印制板孔重合對(duì)位,然后貼上粘膠帶曝光。重氮片呈棕色或桔紅色半透明狀態(tài),可以保證較好的重合對(duì)位精度。銀鹽片(Silver Film)也可采用此法,但必須在底片制作透明定位盤(pán)才能定位。


  活動(dòng)銷(xiāo)釘定位系統(tǒng)包括照相軟片沖孔器和雙圓孔脫銷(xiāo)定位器,其方法是:先將正面,反面兩張底版藥膜相對(duì)對(duì)準(zhǔn),用軟片沖孔器在有效圖形外任意沖兩個(gè)定位孔,任取一張去編鉆孔程序,就可以利用鉆床一次性鉆孔,印制板金屬化孔及預(yù)鍍銅后,便可用雙圓孔脫銷(xiāo)定位器定位曝光。


  固定銷(xiāo)釘定位分兩套系統(tǒng),一套固定照相底版,另一套固定PCB,通過(guò)調(diào)整兩銷(xiāo)釘?shù)奈恢茫瑢?shí)現(xiàn)照相底版與PCB的重合對(duì)準(zhǔn)。


  5.曝光(Exposuring)


  液態(tài)光致抗蝕劑經(jīng)UV光(300~400nm)照射后發(fā)生交聯(lián)聚合反應(yīng),受光照部分成膜硬化而不被顯影液所影響。通常選用的曝光燈燈源為高亮度、中壓型汞燈或者金屬鹵化物汞燈。燈管6000W,曝光量100~300mj/cm2,密度測(cè)定采用21級(jí)光密度表(Stouffer21),以確定最佳曝光參數(shù),通常為6~8級(jí)。液態(tài)光致抗蝕劑對(duì)曝光采用平行光要求不嚴(yán)格,但其感光速度不及干膜,因此應(yīng)使用高效率曝光機(jī)(Drawer)。


  光聚合反應(yīng)取決于燈的光強(qiáng)和曝光時(shí)間,燈的光強(qiáng)與激發(fā)電壓有關(guān),與燈管使用時(shí)間有關(guān)。因此,為保證光聚合反應(yīng)足夠的光能量,必須由光能量積分儀來(lái)控制,其作用原理是保證曝光過(guò)程中燈光強(qiáng)度發(fā)生變化時(shí),能自動(dòng)調(diào)整曝光時(shí)間來(lái)維持總曝光能量不變,曝光時(shí)間為25~50秒。


  影響曝光時(shí)間的因素:


  (1)燈光的距離越近,曝光時(shí)間越短;


  (2)液態(tài)光致抗蝕劑厚度越厚,曝光時(shí)間越長(zhǎng);


  (3)空氣濕度越大,曝光時(shí)間越長(zhǎng);


  (4)預(yù)烘溫度越高,曝光時(shí)間越短。


  當(dāng)曝光過(guò)度時(shí),易形成散光折射,線寬減小,顯影困難。當(dāng)曝光不足時(shí),顯影易出現(xiàn)針孔、發(fā)毛、脫落等缺陷,抗蝕性和抗電鍍性下降。因此選擇最佳曝光參數(shù)是控制顯影效果的重要條件。


  底片質(zhì)量的好壞,直接影響曝光質(zhì)量,因此,底片圖形線路清晰,不能有任何發(fā)暈、虛邊等現(xiàn)象,要求無(wú)針孔、沙眼,穩(wěn)定性好。底片要求黑白反差大:銀鹽片光密度(Density)DMAX≥3.5,DMIN≤0.15;重氮片光密度DMAX≥1.2,DMIN≤0.1。


  一般來(lái)說(shuō),底片制作完后,從一個(gè)工序(工廠)傳送到另一個(gè)工序(工廠),或存貯一段時(shí)間,才進(jìn)入黃光室,這樣經(jīng)歷不同的環(huán)境,底片尺寸穩(wěn)定性難以保證。本人認(rèn)為制完底片應(yīng)直接進(jìn)入黃光室,每張底片制作80多塊板,便應(yīng)廢棄。這樣可避免圖形的微變形,尤其是微孔技術(shù)更應(yīng)重視這一點(diǎn)。


  曝光工序操作注意事項(xiàng)

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